利用者:加藤勝憲/ジェイムズ・ノール

ジェイムズ・ノール（James Nall、19xx年 - xxxx年xx月xx日）は、米国の半導体製造工程における重要な技術であるフォトリソグラフィ法をジェイ・ラスロップとともに開発した。

生いたち、教育

半導体製造技術の開発

19xx年、ワシントンD.C.にあり、後に陸軍のダイヤモンド兵器信管研究所（Diamond Ordnance Fuze Laboratories、DOFL）となる国立標準局（National Bureau of Standards、NBS）で★★年間働いた。NBSはもともと、計量標準を管理する役所であったが、第二次世界大戦前、戦中、戦後しばらくは兵器の開発をしていて、もっともよく知られているのは近接信管である^[1]。

ノールの上司のラスロップは研究の中心をゲルマニウムダイオード製造の微細加工に移した。微細化の難しいメサ型トランジスタと格闘したが、助手をつとめるジェームズ・ノールはラスロップとともにトランジスタを顕微鏡で眺めているうちに、あるアイデアがひらめいた^[2]^[3]。顕微鏡ではものが拡大して見えるが、逆さにすると大きなものが小さく見える。それなら大きな半導体のパターンをゲルマニウム結晶上にプリントしメサ型トランジスタの縮小版をつくれないか？^[4]折しもイーストマン・コダックが感光すると反応するフォトレジストと呼ばれる化学薬品を販売していた。顕微鏡を逆さまにして半導体の回路パターンをフォトレジストに照射し、感光した部分を洗い流すことで微細な電子回路をつくることに基本的に成功した^[5]^[6]。

ラスロップは1958年にテキサス・インスツルメンツ（TI、テキサス州ダラス）に入社し、NBS/DOFLで開拓した技術を使ってマイクロチップの製造方法を研究したがTI社では半導体部門の先端技術担当ディレクターに就任したが、ノールは翌1959年にロバート・ノイスの強い誘いを受けて、フェアチャイルドセミコンダクター社に勤めることにした。

こうして、テキサス・インスツルメンツ社とフェアチャイルドセミコンダクター社において半導体製品の量産化がすすむことになった。

ラスロップと連名の論文は、この ↓ 一覧にある。

https://www.researchgate.net/profile/Jay-Lathrop

脚注

^ 脇英世シリコンバレー 2013, p. 359.
^ J.R. Nall; J.W. Lathrop (1957). “Photolithographic fabrication techniques for transistors which are an integral part of a printed circuit”. 1957 International Electron Devices Meeting. doi:10.1109/IEDM.1957.187078.
^ J.R. Nall; J.W. Lathrop (1958). “Photolithographic fabrication techniques for transistors which are an integral part of a printed circuit”. IEEE Transactions on Electron Devices 5(2): 117. doi:10.1109/T-ED.1958.14395.
^ J. Lathrop (2013). “The Diamond Ordnance Fuze Laboratory's Photolithographic Approach to Microcircuits”. IEEE Annals of the History of Computing. doi:10.1109/MAHC.2011.83.
^ Jay W. Lathrop (Jan.-March 2013). “The Diamond Ordnance Fuze Laboratory's Photolithographic Approach to Microcircuits”. IEEE Annals of the History of Computing Volume: 35, Issue: 1: 48 - 55. doi:10.1109/MAHC.2011.83.
^ クリス・ミラー著、千葉敏生訳『半導体戦争世界最重要テクノロジーをめぐる国家間の攻防』ダイヤモンド社、2023年、51-52頁。ISBN 9784478115466。

参考文献

脇英世『シリコンバレースティーブ・ジョブズの揺りかご』東京電機大学出版局、2013年。ISBN 9784501552107。
クリス・ミラー著、千葉敏生訳『半導体戦争世界最重要テクノロジーをめぐる国家間の攻防』ダイヤモンド社、2023年。ISBN 9784478115466。

参照

外部リンク

[[Category:半導体]] [[Category:半導体製造]]

[FOOTNOTE脇_英世_シリコンバレー2013359-1] 脇英世シリコンバレー 2013, p. 359.

[2] J.R. Nall; J.W. Lathrop (1957). “Photolithographic fabrication techniques for transistors which are an integral part of a printed circuit”. 1957 International Electron Devices Meeting. doi:10.1109/IEDM.1957.187078.

[3] J.R. Nall; J.W. Lathrop (1958). “Photolithographic fabrication techniques for transistors which are an integral part of a printed circuit”. IEEE Transactions on Electron Devices 5(2): 117. doi:10.1109/T-ED.1958.14395.

[4] J. Lathrop (2013). “The Diamond Ordnance Fuze Laboratory's Photolithographic Approach to Microcircuits”. IEEE Annals of the History of Computing. doi:10.1109/MAHC.2011.83.

[5] Jay W. Lathrop (Jan.-March 2013). “The Diamond Ordnance Fuze Laboratory's Photolithographic Approach to Microcircuits”. IEEE Annals of the History of Computing Volume: 35, Issue: 1: 48 - 55. doi:10.1109/MAHC.2011.83.

[6] クリス・ミラー著、千葉敏生訳『半導体戦争世界最重要テクノロジーをめぐる国家間の攻防』ダイヤモンド社、2023年、51-52頁。ISBN 9784478115466。

[1]

[2]

[3]

[4]

[5]

[6]